福州大学在光电与半导体材料领域具有雄厚的科研实力,其化学工程与技术为国家双一流学科。学校在光刻胶材料、化合物半导体及精密光学材料等方向形成了鲜明的科研特色。
学术研究方向:福州大学重点攻关半导体级光刻胶核心技术。半导体级光刻胶的核心是超高纯光刻胶树脂固体单体,其含有羟基、羧基等金属离子强螯合基团,存在高价金属(如Fe、Cr等)难以深度脱除至20 ppb以下的难题,导致我国固体单体的研究和产业化还处于空白状态,技术被日韩及欧美企业垄断。福州大学围绕这一“卡脖子”难题开展系统性攻关。
专利成果:学校在光刻胶领域拥有多项发明专利,包括“一种有机半导体纳米线阵列导电沟道薄膜晶体管制备方法”,该技术利用lift-off工艺、旋涂成膜工艺及毛细渗透工艺,在硅/二氧化硅衬底上制备光刻胶层。学校还拥有化学增幅型光刻胶组合物相关专利技术。
产学研合作:福州大学与漳州电子光电产业紧密合作,在高端光刻胶树脂钝化关键技术领域与福建泓光半导体材料有限公司开展联合攻关,共同推动光刻胶材料的国产化替代。
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